半導体故障解析と特性評価のための高度なソリューション

基準を再定義して、可能性を再考する

課題に対する効率的なソリューション

半導体故障解析では、複雑な段取り、時間のかかる再調整、作業効率を低下させるツールなど、よくある障壁に直面します。今こそワークフローを効率化する時です。

ZEISS GeminiSEMは、プロセスを簡素化し無駄な複雑さを排除するとともに、作業効率を大幅に向上させます。煩雑な調整や手動ナビゲーション、非効率なワークフローともお別れです。低加速電圧(Low kV)イメージングからシームレスなビーム切り替えまで、すべての機能が、より少ない労力で多くを達成できるよう設計されています。

これまでの顕微鏡とは一線を画し、新たなスタンダードの幕開けです。より簡単なワークフロー、より迅速な結果、そして精度を両立し、正確な業務遂行を実現します。

  • 低加速電圧(Low kV)のインパクト

    低いビームエネルギーでも画質を維持

    最先端の半導体デバイスは、デリケートな構造を保護するために超低加速電圧(ultra-Low kV)のイメージングを必要とします。しかし、従来のツールは不必要な複雑さをもたらすことが多く、サイクルタイムが長くなってしまいます。

    200Vで撮影されたNANDメモリブロック画像

  • Geminiカラムテクノロジーは、業界をリードするLow kV性能を提供し、微細な構造の高画質画像をより迅速かつ容易に取得することを可能にします。装置管理に費やす時間を最小限に抑え、より分析の進展に集中することができます。

    50nmフォトレジストアレイ画像

  • GeminiSEMを用いて、SRAMエリア内の7nmデバイスを80eVでプロービング

    GeminiSEMを用いて、SRAMエリア内の7nmデバイスを80eVでプロービング

  • Electron Beam Absorbed Current (EBAC) image contains information about the interconnectivity of sub-surface wiring and the buried p/n junctions.

    Electron Beam Absorbed Current (EBAC) image contains information about the interconnectivity of sub-surface wiring and the buried p/n junctions.

GeminiSEM: イメージングの枠を超え、さらに多くのことを実現

GeminiSEMは、その高精度と信頼性により故障解析や電気的特性評価に新たな基準を確立しました。非磁場光学系と低照射電子線量観察性能により、トランジスタの接点への容易なナビゲーションが可能で、デバイスの電子的特性へ影響を与えることなく測定を行うことができます。

欠陥箇所の特定において、卓越したビーム安定性は、電子ビーム誘起電流(EBIC)、吸収電子電流(EBAC)、電子ビーム誘起抵抗変化(EBIRCH)において最高水準のコントラストを実現します。広い視野により、エンジニアは欠陥探索を迅速に行うことができ、厳しい納期の中でもデータに基づく的確な判断が可能となります。

今後の欠陥検出に、よりクリアな視界を

見る力を拡げ、解決を加速

最先端の半導体デバイスには、欠陥を特定するための高精度なイメージングが求められます。しかし、従来型検出器では重要なディテールまで見極めることが難しい場合があります。

ZEISSの最先端検出器であるRapid BSD検出器およびESB検出器は、優れたイメージング性能を提供します。Rapid BSD検出器は、高加速電圧イメージングで表面下感度を強化し、ESB検出器は材料分析やトポグラフィー観察において高コントラストな画像を実現します。ノイズの低減と鮮明度の向上によって、より深い解析インサイトを得ることができます。

もうピント合わせに煩わされない

ビームを切り替えても、ワークフローは止めない

ビームの切り替えで、ワークフローが中断されるべきではありません。しかし多くのシステムでは、ビームを切り替えるたびに再度のピント合わせやスティグマ調整、再アライメントが必要となり、貴重な時間が浪費されてしまいます。

当社の高精度なシステムキャリブレーションと安定したカラムにより、ビーム切り替え時もピントや視野を損なうことなくスムーズに移行できます。これによりダウンタイムを最小限に抑え、作業効率の高い進行を実現します。

シームレスにナビゲート、ターゲットにロックオン

LM(光学顕微鏡)とEM(電子顕微鏡)の切り替えもスムーズ、自由自在

光学顕微鏡(LM)は、故障解析(FA)ワークフローのさまざまな工程で標準的な参照ツールとなります。LMは電子顕微鏡(EM)では見えない欠陥の洞察を与えることができ、その逆もまた同様です。ナビゲーションや情報共有、レポーティングを行う際には、LM画像とEM画像の相関関係を把握できることが極めて有用です。

ZEISSの相関顕微鏡法により、わずか数クリックでLMからEMへ切り替えができます。面倒なマニュアルでの対応付けや無駄な時間は不要です。必要なエリアに素早くアクセスできるため、より迅速かつ正確に問題を特定し、作業を完了できます。

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