ZEISS LSM 800 for Materials

LSM 800 は、難しい材料アプリケーションに2Dおよび3Dで対応する、ハイエンドの共焦点プラットフォームです。 光学顕微鏡に搭載されている一連の検鏡法を活用する事が出来ます。

• 光学的な検鏡法、あるいは共焦点のモードにおいて、３D構造を蛍光で特性評価
  
• 偏光で異方性材料のイメージング
  
• 円偏光（C-DIC）で関心領域を同定し、共焦点モードでトポグラフィーを解析
  

顕微鏡を変えることなく解析とイメージングを行う事で、セットアップに要する時間を減らし、結果を得るまでの時間を短縮できます。

• 試料の２Dでスキャンする範囲を決め、その関心領域（ROI）だけをイメージング
  
• ROIの大きさと向きは自由に設定可能
  
• 簡略化されたユーザインタフェースがガイド付きワークフローでサポート

共焦点ユニットがワイドフィールドの観察能力を拡張します。

• Axio Imager.Z2m を LSM 800 でアップグレードし、対物レンズ、ステージ、照明などのハードウェアを有効活用
  
• Open Application Development (OAD).によって個別アプリケーションを定義可能。MATLAB などのプログラムとのデータ交換。
• Shuttle & Find で共焦点顕微鏡を相関顕微鏡へ拡張可能。 光学顕微鏡から電子顕微鏡へ、またその逆のワークフローを提供します。効率的にイメージングと解析手法を結合します。材料解析アプリケーションの情報へのアクセス可能。確かな再現性を持っています。
  

LSM 800 は共焦点レーザスキャン顕微鏡です。　レーザ光を共焦点光路に通し、試料のある光学セクションを捉え、3次元画像に再構築します。 アパーチャ（通常ピンホールと呼ばれます）は、焦点面以外の情報を遮り、焦点面の情報だけを検出するように配置されています。

• 画像は x,y 方向にスキャンすることで構築されます。焦点面の情報は明るく、焦点面以外の情報は暗くなります。
  
• 試料と対物レンズ間の距離を変えることで、試料は光学的にセクショニングされイメージスタックが構築されます。
  
• ある画素の明るさ分布をイメージスタック中で解析する事で、対応する高さの測定が可能です。 視野全体の高さ情報からハイトマップが構築できます。
  
  

色収差補正されて平坦性のある C Epiplan-APOCHROMAT 対物レンズが反射光アプリケーションに用いられます。

• コントラストが良く、可視領域の高い透過率がイメージングに最適です。
  
• 従来の顕微鏡観察、微分干渉（DIC）、蛍光で最適な結果を得られます。
  
• C Epiplan-APOCHROMAT 対物レンズは共焦点顕微鏡のために特別に設計されており、405nmで全視野での収差が最小になる様になっています。散乱によるノイズやアーチファクトが少なく、正確なトポグラフィーデータを生成し表面の性状をより詳細に明らかにします。
  

ZEISS LSM 800 は最新バージョンの ZEN イメージングソフトウェアを搭載し、データ変換のための open application development (OAD) も含まれています。

• ワークフローのカスタマイズと自動化。 ZEN ソフトウェアの基本機能以上のものが必要な場合に、MATLAB の様なサードパーティーの解析・研究用ソフトウェアとのデータ交換が可能です。
  
• 個別のマクロソリューション構築。ZEN の主要な機能へ簡単にアクセスし、また、.Net Framework 等、ライブラリを取り込むこともできます。
  

ConfoMap は3Dで表面のトポグラフィーを視覚化し解析する最適なオプションです。

• ISO 25178 等の最新の測定基準に準拠した、表面の機能及び性能の評価が可能。
  
• 数多くの幾何学的、機能的、そして粗さに関する情報を含み、詳細な表面解析のレポートを生成。
  
• オプションで、高度な表面テクスチャ解析、輪郭解析、粒界・粒子解析、3Dフーリエ解析、表面変化および統計解析などを追加可能。