材料分析研究用 SIGMA 電解放出型走査電子顕微鏡

はじめに

SIGMA シリーズ電界放出型走査電子顕微鏡（FE-SEM）によって、高度な解析用の顕微鏡観察を行うことが可能です。インレンズ二次電子検出を行う GEMINI 鏡筒を備えた SIGMA シリーズは、並ぶものがない解像度とコントラスト、輝度で複雑なトポグラフィの試料のイメージングを実現します。高真空と圧力可変モードによる操作で、導電性・非導電性試料の高品位イメージングが可能です。

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特長

解析のパフォーマンス
GEMINI 鏡筒のデザインによって、大変低い電圧で安定したイメージングが可能になります。SIGAMA は、構造を 1.5 nm という極小値まで分解します。SIGMA HD では分解能を更に 1.0nm まで上げることができます。
統合されたワークフロー
SmartSEM にはイメージナビゲーションソフトウェアが完全に統合されているので、デジタルの全体像を見ながら簡単にナビゲーションができ、チャンバ内の試料の回転や位置合わせも可能です。SmartBrowse を使うと、画像と共に関連する解析データ見ることができます。
高い生産性
お使いの SIGMA HD の解析用チャンバにデュアルEDS検出器を取り付け、生産性を向上して下さい。高速で精密なエネルギー分散型X線分光法が可能です。

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SIGMA HD

高真空モードと圧力可変モードの両方が利用可能な SIGMA HD （FE-SEM）は、エレクトロニクスや検出器、機械工学の進化を取り入れており、1 nm という極小の分解能でイメージングを行います。

高解像イメージング

SIGMA HD によって、解析用 FE-SEM で高解像イメージングができるようになりました。低 kV に最適化された新しい後方散乱検出器、HD BSD、低加速電圧（750 V から 3 kV）の試料、低プローブ電流が特徴です。新しい HD BSD では、最大 30 kV のクラス最高級のイメージングが可能です。

高解像での高速元素マッピング

SIGMA HD の大きなイメージフレームストアと高速電子ビーム走査の組み合わせによって、高解像視野（12k × 9k）で高速（ピクセルあたり 50 ナノ秒）な定量的元素マッピングを実現しています。また、2つの EDS を同時に利用できるチャンバになっています。この2つの EDS は、立体角を最大限に検知できるよう正反対の位置に取り付けられています。ビーム感受性の高い試料には、デュアルEDSが高いX線カウントレートを維持しながら、低プローブ電流を可能にします。

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3View

3View によって ZEISS FE-SEM は高速・高解像 3D イメージングシステムに

SIGMA と Gatan Inc. 社の 3View 技術を組み合わせると、樹脂に埋め込んだ細胞や組織の試料から高解像 3D データを得ることができます。可能な限り最短時間で実現します。

3View はSEMチャンバ内のウルトラミクロトームです。試料を連続的に切断してイメージングします。1日で何千もの連続イメージを作成することが可能です。1つの固定されたブロックから生成されるので、すべてのイメージが完璧に並んでいます。