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製品情報
マルチイオンビーム
ZEISS ORION NanoFab

ZEISS ORION NanoFab

10nm以下のナノ構造用の3-in-1マルチビームイオン顕微鏡

ORION NanoFab Helium Ion Microscope

10nm以下のサイズ対象のアプリケーション用イオンビーム顕微鏡

10nm以下のナノ構造を素早く正確に加工

ORION NanoFabはガリウム、ネオン、ヘリウムのビームをシームレスに切り替えます。

ネオンビームはナノ構造を最大速度で加工する場合に使用し、ハイスループットを実現
ヘリウムビームは10nm以下の微細構造を作成する場合に使用
オプションのガリウムFIBは大規模加工する場合に使用

ORION NanoFabは、単一の機器に統合されたガリウム、ネオン、およびヘリウムのイオンビームを使用して、マイクロ加工からナノ加工のアプリケーションを完全にカバーする、世界で唯一のシステムです。

Highlights

10nm以下の構造を高速加工

ネオンとヘリウムのイオンビームを使用して、極めて高い加工精度が要求される10ナノメートル以下の微細構造を作成します。スパッタリングを使用した材料除去、ガス導入エッチング、蒸着、リソグラフィのいずれのアプリケーションでも、ORION NanoFabは10nm以下の加工を高速かつ容易に実行します。

1台のシステムに3種類のビーム

ガリウムFIBは大規模加工に使用します。ネオンビームは精密な高速ナノ加工に利用します。ヘリウムビームは10nm以下の微細構造の加工に使用します。ネオンおよびヘリウムのイオンビームを使用すると、リデポによる汚染を防ぐことができます。

高解像イメージング

ORION NanoFabは0.5nmのイメージング分解能を持ち、加工に使用したものと同じ機器で試料の高解像イメージを生成できます。FE-SEMで取得したイメージと比べて5～10倍の焦点深度を持つイメージにより、新たな観察力を得ることができます。

Nanopatterning

Orion NanoFabはNanoPatterningおよびVisualization Engine（ハードウェアとソフトウェアが統合された制御システム）を搭載しています。NVPEは、NanoFabカラムごとに専用の16ビットスキャンジェネレータと、高度なリアルタイムのパターニングおよび可視化をサポートするデュアル信号収集ハードウェアを搭載しています。GUIによりビームを完全に制御：長方形、台形、多角形、直線、ポリライン、楕円、スポットなどの編集可能な形状を作成します。線量の変化とパターニングパラメータを完全に制御しながら、これらの形状をベクトルで埋めます。

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Multiple ion beam microscopy for advanced nanofabrication

Explore the brand new technology of multiple ion beam microscopy, from the science to the first emerging results.

Webinar

What our customers say

"The Orion Helium Ion Microscope is a unique platform for our research and technology activities in instrument development for nano-analytics, leading to exciting capabilities for cutting edge nano-imaging, nano-analysis and correlative microscopy."
Tom Wirtz Luxembourg Institute of Science and Technology (LIST) Belvaux, Luxembourg May 7, 2015