ORION NanoFab

ORION NanoFab

10nm以下のサイズ対象のアプリケーション用イオンビーム顕微鏡

ORION NanoFab

10nm以下のナノ構造用の3-in-1マルチビームイオン顕微鏡

 

10nm以下のナノ構造を素早く正確に加工します。ORION NanoFabはガリウム、ネオン、ヘリウムのビームをシームレスに切り替えます。

  • ネオンビームはナノ構造を最大速度で加工する場合に使用し、ハイスループットを実現
  • ヘリウムビームは10nm以下の微細構造を作成する場合に使用
  • オプションのガリウムFIBは大規模加工する場合に使用


ORION NanoFabは、単一の機器に統合されたガリウム、ネオン、およびヘリウムのイオンビームを使用して、マイクロ加工からナノ加工のアプリケーションを完全にカバーする、世界で唯一のシステムです。

特長

  • 10nm以下の構造を高速加工
    ネオンとヘリウムのイオンビームを使用して、極めて高い加工精度が要求される10ナノメートル以下の微細構造を作成します。スパッタリングを使用した材料除去、ガス導入エッチング、蒸着、リソグラフィのいずれのアプリケーションでも、ORION NanoFabは10nm以下の加工を高速かつ容易に実行します。
 
  • 1台のシステムに3種類のビーム
    ガリウムFIBは大規模加工に使用します。ネオンビームは精密な高速ナノ加工に利用します。ヘリウムビームは10nm以下の微細構造の加工に使用します。ネオンおよびヘリウムのイオンビームを使用すると、リデポによる汚染を防ぐことができます。
 
  • 高解像イメージング
    ORION NanoFabは0.5nmのイメージング分解能を持ち、加工に使用したものと同じ機器で試料の高解像イメージを生成できます。FE-SEMで取得したイメージと比べて5~10倍の焦点深度を持つイメージにより、新たな観察力を得ることができます。

Nanopatterning

Orion NanoFabはNanoPatterningおよびVisualization Engine(ハードウェアとソフトウェアが統合された制御システム)を搭載しています。

NVPEは、NanoFabカラムごとに専用の16ビットスキャンジェネレータと、高度なリアルタイムのパターニングおよび可視化をサポートするデュアル信号収集ハードウェアを搭載しています。

GUIによりビームを完全に制御:長方形、台形、多角形、直線、ポリライン、楕円、スポットなどの編集可能な形状を作成します。線量の変化とパターニングパラメータを完全に制御しながら、これらの形状をベクトルで埋めます。

Downloads

ZEISS ORION NanoFab

3種のイオンビームによる10nm以下の加工を実現on

ページ: 16
ファイルサイズ: 13.857 kB

White Paper: Sub-10 nm Nano-machining with Multiple Ion Beams

for High Precision and High Throughput Applications

ページ: 5
ファイルサイズ: 1.923 kB

White Paper: Advancing Oil and Gas Exploration with ORION NanoFab

ページ: 6
ファイルサイズ: 2.807 kB

White Paper: ORION NanoFab: An Overview of Applications

ページ: 6
ファイルサイズ: 1.425 kB

White Paper: ORION NanoFab - Plasmonic Devices Fabricated with Helium Ion Microscopy

ページ: 5
ファイルサイズ: 2.478 kB

Application Note: ZEISS ORION NanoFab

Imaging Polymers with a Helium Beam

ページ: 7
ファイルサイズ: 3.522 kB

Application Note: ZEISS ORION NanoFab

TEM Sample Preparation using Gallium & Neon Ion Beams

ページ: 7
ファイルサイズ: 6.599 kB